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            納米壓印Nanonex高分辨率光刻/對準器

            描述:納米壓印Nanonex高分辨率光刻/對準器為電子,光電,MEMS和許多其他應用中的高分辨率,對準,接觸和接近光刻提供了高質量,可靠且經濟高效的解決方案。

            更新時間:2021-06-02
            產品型號:
            廠商性質:經銷商
            詳情介紹

            納米壓印Nanonex高分辨率光刻/對準器 Lumina系列為電子,光電,MEMS和許多其他應用中的高分辨率,對準,接觸和接近光刻提供了高質量,可靠且經濟高效的解決方案。 它具有易于使用的界面,高精度的載物臺,高性能的光學元件和較小的占地面積。

            Nanonex Lumina-200納米壓印主要特點

            高分辨率光刻

            高精度對準平臺

            先進的對準光學

            間隙控制

            用戶友好的PC控制

            占地面積小

            具有成本效益的設計

            背面對齊可選

            應用領域:半導體器件 *微機電系統 *光電子學 *高級包裝 *電力設備

            納米壓印Nanonex高分辨率光刻/對準器技術參數

            手冊X-Y-?

            帶稱重傳感器的電動Z

            移動范圍: X和Y:1英寸

            ?:10度

            Z:0.25英寸

            掩膜加載能力

            5”口罩標準

            其他尺寸可選

            基板裝載能力

            4”標準

            其他尺寸可選

            對準 模式:接近、柔和、硬

            對準光學

            分割欄 5倍物鏡,1到7倍變焦

            2個獨立的手動X,Y,Z顯微鏡移動 精細粗調

            通過CCD相機成像

            曝光系統

            紫外線:汞燈,帶有可選的G線或I線過濾器

            紫外線燈功率:500瓦

            紫外線均勻照射

            電動紫外線燈移動

            具有Microsoft Windows的基于PC的控制計算機

            用戶友好的控制軟件 PC控制的CCD視頻

            紫外線燈曝光由電腦控制

            占地面積:31英寸乘44英寸(780毫米乘1110毫米)

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