手動等離子清洗刻蝕系統對于清潔，剝離和表面改性，等離子體是有毒化學物質的有效替代品，并且在表面上沒有殘留溶劑。

YES-CV200RFS等離子剝離/拋光系統利用低頻，下游和電容性等離子工藝。避免使用有毒的化學藥品，以進行溫和的“除垢”清潔以及強韌的光刻膠，聚酰亞胺和BCB的強力等離子體剝離。通過濕法工藝可獲得更高的產量和可重復的結果。