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            • 手動等離子清洗刻蝕系統

              手動等離子清洗刻蝕系統對于清潔,剝離和表面改性,等離子體是有毒化學物質的有效替代品,并且在表面上沒有殘留溶劑。

              更新時間:2021-06-02

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            • 等離子剝離/拋光系統

              YES-CV200RFS等離子剝離/拋光系統利用低頻,下游和電容性等離子工藝。避免使用有毒的化學藥品,以進行溫和的“除垢”清潔以及強韌的光刻膠,聚酰亞胺和BCB的強力等離子體剝離。通過濕法工藝可獲得更高的產量和可重復的結果。

              更新時間:2021-06-02

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